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双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP实验平台

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HD-CK1200-ICP实验平台特点:,

◆由CM1进片腔(前处理室)+CM2工艺腔(光学成膜腔)组成;

◆适合做菲林(NCVM)、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识别,可AR+AF、NCVM+AF一次成膜。 

◆成膜方式:磁控溅射ICP后离化镀膜。

◆载具挂板可异型设计,制作异型样品

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成光学膜、颜色膜、硬质膜层、AF膜,实验应用于手机盖板、摄像头,智能家居、智能穿戴,车载显示等镀膜工艺的膜系设计开发、设备软硬件测试。


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