双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP实验平台

HD-CK1200-ICP实验平台特点：，

◆由CM1进片腔（前处理室）+CM2工艺腔（光学成膜腔）组成；

◆适合做菲林（NCVM）、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识别，可AR+AF、NCVM+AF一次成膜。 

◆成膜方式：磁控溅射ICP后离化镀膜。

◆载具挂板可异型设计，制作异型样品

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成光学膜、颜色膜、硬质膜层、AF膜，实验应用于手机盖板、摄像头，智能家居、智能穿戴，车载显示等镀膜工艺的膜系设计开发、设备软硬件测试。