双室磁控溅射镀膜机HD-CK1200-ICP是一款高兼容性设备，适合做菲林（NCVM）、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识等产品;可制备NB2O5、SIO2 、SI3N4、SIH、Cr、In等不同膜层，镀膜工艺室不破空，稳定性重复性优异，采取整鼓平移连续的方式。
◆工件转动：1~120r/min无极可调
◆极限真空：<2.0E-4Pa
◆膜层均匀性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效镀膜尺寸：
HD-CK1200-ICP有效溅射区域Φ1200mm*H400mm
