立式真空回转磁控溅射镀膜连续线实验平台

立式真空回转磁控溅射镀膜连续线实验平台特点：，

◆立式连续镀膜真空内旋转设计，可以有效节省安装空间， 

◆ 可以制备AR膜、金属膜、ITO导电膜

◆有效镀膜区域：1100mm*1300mm;可以镀膜大尺寸车载显示屏，大尺寸曲面/异型显示屏

◆箱体可以阴极替换，可以灵活调整阴极位配置。

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成到导电膜、光学膜、颜色膜，平台应用于大尺寸车载、异型产品的工艺开法和设备软硬件测试研发。