三室磁控溅射镀膜机(ICP离化型式)

三室磁控溅射镀膜机(ICP离化型式)：

     三室磁控溅射镀膜机是一款高兼容性设备，采用ICP 后离化模式，镀膜效率高，适合做菲林（NCVM）、车载、摄像头超硬AR、IR-CUT等滤光片、人脸识等产品。可制备NB2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜层，镀膜工艺室不破空，稳定性重复性优异，采取整鼓平移连续的方式，省去抽放气时间，极大提高生产效率。兼容3D异型车载玻璃。

◆工件转动：1~120r/min无极可调
◆极限真空：<2.0E-4Pa
◆膜层均匀性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效镀膜尺寸：

HD-SCK1600-ICP有效溅溅射高度850mm,

HD-SCK1800-ICP有效溅射高度1250mm.

HD-SCK1800H-ICP有效溅射尺寸1500mm